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EBSD样品制备新方法——氩离子抛光技术

2015-7-29 13:37| 发布者: fansiyuan| 查看: 946| 评论: 0

摘要: EBSD样品制备新方法——氩离子抛光技术您还在为得到一个优秀的 EBSD样品而进行各类电解液的配方调制而发愁吗?您还在为得到一个优秀的 EBSD样品,而花费大量时间泡在实验室进行各类机械抛光处理而苦恼吗?您还在为使 ...
EBSD样品制备新方法——氩离子抛光技术


您还在为得到一个优秀的 EBSD样品而进行各类电解液的配方调制而发愁吗?您还在为得到一个优秀的 EBSD样品,而花费大量时间泡在实验室进行各类机械抛光处理而苦恼吗?您还在为使用 FIB技术得到的优秀小面积 EBSD样品所花费的高额费用而担心吗?

GATAN公司最新一代的 ILION II 697氩离子抛光系统轻轻松松帮您解决以上所有问题。

EBSD技术可以通过研究晶粒取向关系、晶界类型、再结晶晶粒、微织构等,反应材料在凝固、形变、相变、失效破坏等过程中晶粒是如何形核长大及晶粒间的取向转换等,可以作为技术人员提高材料性能的理论依据,目前 EBSD技术广泛应用于金属、陶瓷、地质矿物等领域。

背散射电子( BSD)只发生在试样表层几十个纳米的深度范围,所以试样表面的残余应变层(或称变形层、扰乱层)、氧化膜以及腐蚀坑等缺陷都会影响甚至完全抑制 EBSD的发生,与一般的金相试样相比,一个合格的 EBSD样品,要求试样表面无应力层、无氧化层、无连续的腐蚀坑、表面起伏不能过大、表面清洁无污染,因此试样表面的制备质量很大程度上决定着 EBSD的质量。

GATAN公司新一代的氩离子抛光是利用高电流密度的氩离子束对样品进行减薄,氩离子相对镓离子来说非常轻,产生的应力层、非晶层非常薄,可以避免由于制样方法对实验数据产生的误导,同时由于晶格畸变较小,可以提高 EBSD的标定率,降低标定参数,从而有效提高标定效率,节约时间。以下三幅图片试样采用 Ilion II 1 kV的条件下进行抛光后,在 20 kV条件下得到的碳化钨 /钴样品的 EBSD结果,其中的钴没有发生 FCC HCP的相变。(照片由英国曼切斯特大学 A Gholinia博士提供)

 



Gatan公司生产的 Ilion(697)是一款完全独立、结构紧凑的台式设备等氩离子抛光产品,它能稳定地制备出高质量的样品,用于扫描电镜、光学或扫描探针显微镜的成像以及 EDSEBSDCLEBIC及其它分析技术。

具有截面及平面两种抛光模式,通过调节不同电压、电子枪的位置及倾斜角,可以有效控制抛光时间及抛光区域。其最低可以使用 1ev的电压对样品进行抛光,产生的非晶层非常薄为纳米级。

进行抛光时,可以首先利用高电压将应力层去除,再利用低电压将非晶层减薄、修整表面,整个过程所用时间非常短。对于易于发热的样品,可以通过液氮实时控制样品室温度,一方面可以避免样品发热对实验数据产生的影响,另一方面可以极大提高样品的 EBSD标定率。同时配备的交换舱,不必等到液氮全都挥发后更换样品,可以极大缩短更换样品的时间。氩离子抛光对于晶粒特别细小、多相材料及极易氧化材料做 EBSD检测时的样品制备具有极大的优势,被广大 EBSD用户公认为最佳 EBSD样品制备方法。

        欲了解更多详情您还可以拨打全国免费咨询电话800-8900-558或扫描微信二维码加入微信公共平台进行互动讨论!


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